国际商标标志双年奖
INTERNATIONAL LOGO BIENNIAL AWARDS CHINA

CCII国际设计中心、首都企业形象研究会，是国际平面设计社团协会（ICOGRADA）在中国地区主要协会成员，自97年创建以来，致力于视觉形象领域的国际交流与研究推广，分别在北京、上海等地成功举办LOGO1998、LOGO2000、LOGO2002、LOGO2004、LOGO2006、LOGO2008六届国际商标节，第七届国际商标节，即LOGO2010。秉承CCII“创意为公，设计立国”的理念，秉持创意、创新、公平、公正的原则，继续新一轮的创意征稿，欢迎各界人士积极参与，共襄盛举。

两年一度的国际商标标志双年奖是ICOGRADA认可的国际性设计奖项，也是商标节的重要活动之一。历届评审团均由国际著名设计大师组成，其中有ICOGRADA前主席海尔穆特·朗格、AGI前主席石汉瑞、美国分会主席斯蒂夫·盖斯布勒、瑞士分会主席尼古拉斯·特罗斯勒、法国AGI成员吕迪·鲍尔、中国AGI会员余秉楠、靳埭强、阿根廷平面协会主席巴布罗·康斯特、香港设计师协会前任主席刘小康、纽约艺术指导协会（ADC）评委王序等。他们的评选结果代表了当今世界视觉识别设计领域的极高水准，使一批优秀的设计师脱颖而出，并将他们的视觉能量传播给世界。评选将严格遵循双年奖的评选的三大原则进行：作品的原创性、艺术上的完美性、准确传达内容。

本届双年奖所有参赛作品创作时间限定为2004年至2010年，获奖作品将入选《LOGO2010国际商标标志双年奖年鉴》，并将在国际设计网及相关的宣传资料中刊登。评选结束后，作品将随ADC获奖作品在全国20多个城市巡回展出，更将通过ICOGRADA在各国的设计组织与其他国家进行设计交流展览。